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被轰击的材料称为靶。由于离子易于在电磁场中加速或偏转，所以荷能粒子一般为离子，这种溅射称为离子溅射。溅射镀膜有两种方式：一种称为阴极溅射，主要利用低压气体放电现象，使处于等离子状态下的离子轰击靶面，溅射出的粒子沉积在基片上。另一种称为离子束溅射，指真空状态下用离子束轰击靶表面，使溅射出的粒子在基片表面成膜。
本文关键字：镀膜 电工基础，电工技术 - 电工基础
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